发明公开
- 专利标题: 一种设有析氢氧层的半导体激光元件
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申请号: CN202310209912.9申请日: 2023-03-07
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公开(公告)号: CN116404523A公开(公告)日: 2023-07-07
- 发明人: 李水清 , 请求不公布姓名 , 王星河 , 张江勇 , 蔡鑫 , 刘紫涵 , 陈婉君 , 胡志勇 , 陈三喜 , 蒙磊 , 季徐芳
- 申请人: 安徽格恩半导体有限公司
- 申请人地址: 安徽省六安市金安区巢湖路288号
- 专利权人: 安徽格恩半导体有限公司
- 当前专利权人: 安徽格恩半导体有限公司
- 当前专利权人地址: 安徽省六安市金安区巢湖路288号
- 代理机构: 六安市新图匠心专利代理事务所
- 代理商 林弘毅
- 主分类号: H01S5/34
- IPC分类号: H01S5/34 ; H01S5/20 ; H01S5/028
摘要:
本发明提供了一种设有析氢氧层的半导体激光元件,涉及半导体光电器件技术领域,从下至上依次包括衬底、下限制层、下波导层,有源层、上波导层、电子阻挡层、上限制层,上限制层的上方设有析氢氧层,用于吸附上限制层的氢原子和氧原子并进行脱附,通过异质界面降低析氢氧反应的过电位,加快反应动力学,通过电化学方法在外加偏压下吸附上限制层中的氢原子和氧原子,并对氢原子和氧原子进行高效脱附,减少对界面和表面的Mg氧化,析氢氧质量比活性较传统的Pt/C提升5倍以上,形成H2和O2排出表面,提升上限制层的p型掺杂元素的离化率并降低受主激活能,提升上限制层的空穴浓度。