本申请涉及软磁合金技术领域，尤其涉及一种铁镍基软磁合金箔材及其制备方法和应用。所述合金箔材中的化学成分包括：Ni以及不可避免的杂质成分，所述杂质成分包括O、N、P、S以及H；其中，Ni的含量为70重量％～85重量％，O的含量为≤8ppm，N的含量为≤5ppm，P的含量为≤20ppm，S的含量为≤15ppm，H的含量为≤5ppm；且夹杂物等级不超过DS1.0。本申请内容解决了现有铁镍基软磁合金箔材在高频段弱磁场下的屏蔽效能较差的技术问题。