Invention Publication
- Patent Title: 在压印光刻工艺中配置光学层
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Application No.: CN202310432964.2Application Date: 2018-01-31
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Publication No.: CN116449646APublication Date: 2023-07-18
- Inventor: V·辛格 , M·N·米勒 , F·Y·徐 , C·弗莱肯斯坦
- Applicant: 分子印记公司
- Applicant Address: 美国德克萨斯州
- Assignee: 分子印记公司
- Current Assignee: 分子印记公司
- Current Assignee Address: 美国德克萨斯州
- Agency: 北京市中咨律师事务所
- Agent 牛晓玲; 吴鹏
- Priority: 62/453,249 20170201 US
- Main IPC: G03F7/00
- IPC: G03F7/00
Abstract:
本发明涉及在压印光刻工艺中配置光学层。一种配置光学层的压印光刻方法，包括以这样的方式在衬底的一面的顶部上沉积一组液滴，即该组液滴不接触形成在衬底上的功能图案。该压印光刻方法还包括固化该组液滴以形成间隔层，该间隔层与衬底的所述一面相关联且具有选择为使得该间隔层可以支承与衬底相邻并且在与功能图案间隔开的位置处跨越该组液滴的表面的高度。
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