发明公开
- 专利标题： 通过高频电剌激的应用进行的真皮再生促进方法
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申请号： CN202180078685.X申请日： 2021-12-14
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公开(公告)号： CN116669645A公开(公告)日： 2023-08-29
- 发明人: 山田南实 , 入山俊介 , 相马勤 , 山崎谦太朗
- 申请人： 株式会社资生堂 , 雅门股份有限公司
- 申请人地址： 日本东京都;
- 专利权人： 株式会社资生堂,雅门股份有限公司
- 当前专利权人： 株式会社资生堂,雅门股份有限公司
- 当前专利权人地址： 日本东京都;
- 代理机构： 北京市中咨律师事务所
- 代理商 马妮楠; 段承恩
- 优先权： 2021-152176 20210917 JP 2021-152176 20210917 JP
- 国际申请： PCT/JP2021/046152 2021.12.14
- 国际公布： WO2022/138350 JA 2022.06.30
- 进入国家日期： 2023-05-23
- 主分类号： A61B18/12
- IPC分类号： A61B18/12
摘要：
本发明提供基于通过对皮肤应用高频而获得的真皮干细胞的稳定性改善的美容方法。本发明的美容法包含对皮肤应用高频而提高真皮干细胞的稳定性、和/或使与稳定性有关的基因的表达增强。
