发明公开
- 专利标题： 发光器件及其制备方法、发光装置
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申请号： CN202180004228.6申请日： 2021-12-27
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公开(公告)号： CN116686408A公开(公告)日： 2023-09-01
- 发明人: 王铁石 , 陈卓
- 申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方技术开发有限公司
- 申请人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 专利权人： 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方技术开发有限公司
- 当前专利权人： 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方技术开发有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 代理机构： 北京润泽恒知识产权代理有限公司
- 代理商 冀晓恺
- 国际申请： PCT/CN2021/141752 2021.12.27
- 国际公布： WO2023/122902 ZH 2023.07.06
- 进入国家日期： 2021-12-28
- 主分类号： H10K50/80
- IPC分类号： H10K50/80
摘要：
发光器件及其制备方法、发光装置，涉及半导体技术领域。发光器件包括：衬底，以及设置在衬底一侧的发光层和附加结构，附加结构可与水氧发生化学反应，附加结构与水氧的反应速率常数大于发光层与水氧的反应速率常数；其中，附加结构的设置位置包括以下至少之一：与发光层同层设置，与发光层异层设置。
