Invention Publication
- Patent Title: 超纯水供应装置、衬底处理系统和衬底处理方法
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Application No.: CN202310072127.3Application Date: 2023-01-13
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Publication No.: CN116693081APublication Date: 2023-09-05
- Inventor: 鞠东澈 , 朴宙熙 , 金世润 , 李枝连
- Applicant: 三星电子株式会社
- Applicant Address: 韩国京畿道
- Assignee: 三星电子株式会社
- Current Assignee: 三星电子株式会社
- Current Assignee Address: 韩国京畿道
- Agency: 中科专利商标代理有限责任公司
- Agent 张霞; 倪斌
- Priority: 10-2022-0027913 20220304 KR
- Main IPC: C02F9/00
- IPC: C02F9/00 ; C02F1/28 ; C02F1/44 ; C02F1/42 ; C02F103/04

Abstract:
一种超纯水供应装置可以包括:活性炭过滤设备;离子交换树脂设备,连接到活性炭过滤设备;反渗透膜设备,连接到离子交换树脂设备;中空纤维膜设备,连接到反渗透膜设备;第一流体驱动部,在反渗透膜设备和中空纤维膜设备之间;以及控制单元,被配置为控制第一流体驱动部。第一流体驱动部可以包括:第一泵、第二泵和第三泵,与反渗透膜设备并行连接;以及压力传感器,位于第一泵和中空纤维膜设备之间。控制单元可以被配置为基于从压力传感器发送的信号来控制第一泵、第二泵和第三泵中的每一个泵。
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