- 专利标题: 一种适于吸附晶圆的陶瓷真空吸盘及降低晶圆表面划伤率的生产方法
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申请号: CN202310527859.7申请日: 2023-05-11
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公开(公告)号: CN116798929B公开(公告)日: 2024-03-08
- 发明人: 姚相民 , 马玉琦 , 房成浩 , 李奇
- 申请人: 杭州大和江东新材料科技有限公司
- 申请人地址: 浙江省杭州市杭州大江东产业集聚区江东三路6515号
- 专利权人: 杭州大和江东新材料科技有限公司
- 当前专利权人: 杭州大和江东新材料科技有限公司
- 当前专利权人地址: 浙江省杭州市杭州大江东产业集聚区江东三路6515号
- 代理机构: 杭州杭诚专利事务所有限公司
- 代理商 李博
- 主分类号: H01L21/683
- IPC分类号: H01L21/683
公开/授权文献
- CN116798929A 一种适于吸附晶圆的陶瓷真空吸盘及降低晶圆表面划伤率的生产方法 公开/授权日:2023-09-22
IPC分类: