Invention Publication
- Patent Title: 一种SiC MOSFET器件栅极退化监测方法及监测电路
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Application No.: CN202310888313.4Application Date: 2023-07-19
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Publication No.: CN116859205APublication Date: 2023-10-10
- Inventor: 孙鹏菊 , 杨滢辉 , 李凯伟 , 马兴 , 杜雄 , 罗全明
- Applicant: 重庆大学 , 国网重庆市电力公司电力科学研究院 , 国家电网有限公司
- Applicant Address: 重庆市沙坪坝区沙正街174号; ;
- Assignee: 重庆大学,国网重庆市电力公司电力科学研究院,国家电网有限公司
- Current Assignee: 重庆大学,国网重庆市电力公司电力科学研究院,国家电网有限公司
- Current Assignee Address: 重庆市沙坪坝区沙正街174号; ;
- Agency: 重庆博凯知识产权代理有限公司
- Agent 张先芸
- Main IPC: G01R31/26
- IPC: G01R31/26

Abstract:
本发明提供一种沟槽栅型SiC MOSFET器件栅极退化监测方法和监测电路。该方法利用SiC MOSFET器件第三象限零栅压、不同结温下的输出特性曲线交点处的体二极管压降作为特征量。在双脉冲电路中,下管待测SiC MOSFET器件的栅压始终保持零栅压;在电感电流通过下管待测SiC MOSFET器件续流时,侦测交点电流下待测SiC MOSFET器件的体二极管压降值,通过与全新器件在该交点电流下的体二极管压降值作对比以判断待测SiC MOSFET器件是否发生了栅极退化。本发明能够忽略结温的影响实现SiC MOSFET器件栅极退化的准确监测,且是一个很好的在线监测的候选方法,可以避免因停机检测造成的经济损失。
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