发明公开
- 专利标题: 基于OpenGL的缺陷生成方法及装置
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申请号: CN202311131547.0申请日: 2023-09-01
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公开(公告)号: CN117095111A公开(公告)日: 2023-11-21
- 发明人: 赵何 , 潘正颐 , 侯大为 , 杨秉恩
- 申请人: 常州微亿智造科技有限公司
- 申请人地址: 江苏省常州市钟楼经济开发区玉龙南路280号常州大数据产业园4号楼2楼
- 专利权人: 常州微亿智造科技有限公司
- 当前专利权人: 常州微亿智造科技有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省常州市钟楼经济开发区玉龙南路280号常州大数据产业园4号楼2楼
- 代理机构: 常州佰业腾飞专利代理事务所
- 代理商 吕小丽
- 主分类号: G06T15/80
- IPC分类号: G06T15/80 ; G06T19/20
摘要:
本发明涉及工业质检技术领域,提供一种基于OpenGL的缺陷生成方法及装置,方法包括:获取良品图和缺陷样本图,并生成缺陷样本图的第一颜色贴图和第一法线贴图;生成良品图的掩膜图,在掩膜图的掩膜区域任意选择缺陷位置,并得到第二颜色贴图和第二法线贴图;在OpenGL渲染工作室中,生成具有顶点数据的3D平面;通过OpenGL着色器对良品图、第二颜色贴图、第二法线贴图和3D平面及其顶点数据进行处理得到待渲染图;对待渲染图进行渲染得到目标缺陷图。由此,通过OpenGL对良品图、掩膜图的颜色贴图和法线贴图进行渲染处理生成目标缺陷图,渲染效率高,可以在保证缺陷生成效果的同时提升缺陷生成效率。