- 专利标题: 原位电场诱导的高电导率非线性系数涂层制备方法及装置
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申请号: CN202310669153.4申请日: 2023-06-06
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公开(公告)号: CN117116576B公开(公告)日: 2024-03-22
- 发明人: 潘成 , 毛诗壹 , 唐炬 , 潘子君 , 郝留成 , 袁端鹏 , 王亚祥
- 申请人: 武汉大学 , 平高集团有限公司
- 申请人地址: 湖北省武汉市武昌区八一路299号;
- 专利权人: 武汉大学,平高集团有限公司
- 当前专利权人: 武汉大学,平高集团有限公司
- 当前专利权人地址: 湖北省武汉市武昌区八一路299号;
- 代理机构: 武汉科皓知识产权代理事务所
- 代理商 张火春
- 主分类号: H01B19/04
- IPC分类号: H01B19/04 ; C09D163/00 ; C09D7/62 ; C09D5/25 ; B05D7/24 ; B05D5/12 ; B05D3/02 ; B05D3/14 ; H01B17/56
摘要:
本发明公开了一种原位电场诱导的高电导率非线性系数涂层制备方法及装置,所述制备方法包括将环氧树脂、固化剂、促进剂、硅烷偶联剂及功能填料混合得到复合绝缘涂料;将复合绝缘涂料涂覆于绝缘基材表面,在交流电场作用下将复合绝缘涂料在绝缘基材表面进行第一次固化;撤去交流电场,将复合绝缘涂料在绝缘基材表面进行第二次固化以在绝缘基材表面形成高电导率非线性系数涂层。本发明所提出的涂层制备方法可以使低填料浓度的绝缘涂层拥有较高的非线性电导系数,在绝缘表面有效均匀电场和调控电荷聚散,提高绝缘材料沿面耐电强度。
公开/授权文献
- CN117116576A 原位电场诱导的高电导率非线性系数涂层制备方法及装置 公开/授权日:2023-11-24