发明公开

等离子体治疗系统
摘要:
本发明公开了一种等离子体治疗系统,等离子治疗系统包括:供电装置、上位机、下位机、高压调控装置和等离子体发生装置;供电装置用于供电;上位机用于根据输入的治疗参数生成控制数据指令,并将控制数据指令下发至下位机;下位机用于根据控制数据指令控制高压调控装置输出第一非交流高压,其中,第一非交流高压为直流高压和脉冲高压中的一者;等离子体发生装置用于将直流高压通过第一治疗头,产生低温等离子体,以及将脉冲高压通过第二治疗头,将第二治疗头自带的风扇吹出的空气等离子体化,产生低温等离子体。本发明实施例的等离子体治疗系统,能够产生对应的等离子体,以对需要治疗的目标患者进行治疗,从而提高患者的治疗效果。
公开/授权文献
0/0