本发明公开了磁控溅射镀膜中的镀膜监控方法、装置及系统，涉及磁控溅射镀膜技术领域。所述方法包括：在镀膜腔室中对应着磁控溅射基材布置检测拉丝，检测拉丝设置在靶材与基材之间的间隙通道中；在镀膜过程中，检测拉丝与磁控溅射基材同时进行镀膜；还包括拉丝操控装置和拉丝检测机构，拉丝操控装置用于布置检测拉丝，以及控制检测拉丝的放丝和收丝；拉丝检测机构用于对检测拉丝的镀膜情况进行检测以获取磁控溅射镀膜信息，并将磁控溅射镀膜信息发送给关联的处理器。本发明能够对基材的连续区域进行实时镀膜数据监控，在基本不影响基材镀膜操作的基础上及时、精确地获取基材大范围区域的镀膜效果信息，结构简单且易于实现。