- 专利标题： 光学层叠体、光学层叠体的制造方法、光学构件、光学装置、光学构件的制造方法及光学装置的制造方法
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申请号： CN202180096670.6申请日： 2021-12-28
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公开(公告)号： CN117157191A公开(公告)日： 2023-12-01
- 发明人: 森岛谅太 , 吉川贵博 , 服部大辅
- 申请人： 日东电工株式会社
- 申请人地址： 日本大阪府
- 专利权人： 日东电工株式会社
- 当前专利权人： 日东电工株式会社
- 当前专利权人地址： 日本大阪府
- 代理机构： 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 杨薇
- 优先权： 2021-058828 2021.03.30 JP
- 国际申请： PCT/JP2021/049010 2021.12.28
- 国际公布： WO2022/209104 JA 2022.10.06
- 进入国家日期： 2023-09-28
- 主分类号： B32B5/18
- IPC分类号： B32B5/18
摘要：
本发明的目的在于提供空隙层相对于剥离的强度高的光学层叠体、光学层叠体的制造方法、光学构件、光学装置、光学构件的制造方法及光学装置的制造方法。为了实现上述目的，本发明的光学层叠体(10a)或(10b)包含空隙层(12)、和形成于空隙层(12)上的硬质层(13)，空隙层(12)的空隙率为30体积％以上，硬质层(13)包含选自金属、金属氧化物、硅、硅氧化物及有机无机杂化材料中的至少一种，并且，使用纳米压痕仪对于硬质层将压头压入(13)20nm而测定的硬度比空隙层(12)大。
