发明公开
- 专利标题: 阵列基板及其制备方法、显示装置
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申请号: CN202280000553.X申请日: 2022-03-25
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公开(公告)号: CN117157582A公开(公告)日: 2023-12-01
- 发明人: 赵一静 , 谢超 , 杨宇丹 , 杨曦 , 熊韬
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方显示科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方显示科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方显示科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京中博世达专利商标代理有限公司
- 代理商 申健
- 国际申请: PCT/CN2022/083203 2022.03.25
- 国际公布: WO2023/178705 ZH 2023.09.28
- 进入国家日期: 2022-03-30
- 主分类号: G02F1/1362
- IPC分类号: G02F1/1362 ; G02F1/1343 ; G02F1/1368
摘要:
一种阵列基板,阵列基板包括衬底以及设置在衬底上的第一栅线、多根数据线、多个第一像素电极、多个第一晶体管和多个第一电容线。一数据线与第一栅线交叉且绝缘。一第一像素电极位于第一栅线的第一侧。一第一晶体管的栅极、第一极和第二极依次与第一栅线、数据线和第一像素电极耦接。一第一电容线在衬底上的正投影与第一像素电极在衬底上的正投影有交叠;第一电容线包括第一导电段,第一导电段靠近第一栅线,第一导电段上设有第一断口,第一断口位于充电耦接点远离数据线的一侧,且偏离第一导电段的中部;第一导电段上位于第一断口远离中部一侧的部分和第一晶体管的第二极,二者在衬底上的正投影有交叠。
IPC分类: