发明公开
- 专利标题: 像素结构及其制作方法、探测基板、探测装置
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申请号: CN202210603859.6申请日: 2022-05-27
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公开(公告)号: CN117174719A公开(公告)日: 2023-12-05
- 发明人: 黄鹏 , 李振东 , 贵炳强 , 高涛
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京风雅颂专利代理有限公司
- 代理商 王刚
- 主分类号: H01L27/146
- IPC分类号: H01L27/146
摘要:
本公开提供一种像素结构及其制作方法、探测基板、探测装置,该像素结构包括:衬底基板;设置在衬底基板上的薄膜晶体管层和像素定义层,所述薄膜晶体管层包括:多个薄膜晶体管;所述像素定义层包括:设置在所述薄膜晶体管对应的像素定义层空间的遮光层,所述遮光层用于遮挡照射到所述薄膜晶体管的射线。使得探测基板实现高频扫描并降低探测电子噪音,进而极大提高探测装置的检测速度和准确性。并且,像素结构中的遮光层通过避免X射线及其他短波长光对IGZO TFT长期工作在负偏压下特性的负偏,提高了像素结构中薄膜晶体管工作的稳定性。
IPC分类: