一种咔唑供体的化合物及其合成方法和应用
摘要:
本发明公开了一种咔唑供体的化合物及其合成方法和应用,以此制备得到的材料,具有可修饰性强、低毒性、优异的生物相容性和良好的代谢能力。本发明的近红外二区分子,消除了金属污染和毒性的问题。其次,该分子具有可修饰性强,可以通过改变π桥或电子受体的结构进行调节和优化,构成新型的D‑π‑A‑π‑D结构的近红外二区分子。
公开/授权文献
0/0