发明公开
CN117238746A 气相分子电离腔体装置
审中-公开
- 专利标题: 气相分子电离腔体装置
-
申请号: CN202311440081.2申请日: 2023-11-01
-
公开(公告)号: CN117238746A公开(公告)日: 2023-12-15
- 发明人: 韩海燕 , 闫永亮 , 刘秀红 , 赵志 , 魏红君 , 石瑞丽 , 胡振龙 , 阎俊 , 刘春英 , 刘彦彤
- 申请人: 河北工程大学
- 申请人地址: 河北省邯郸市经济技术开发区太极路19号
- 专利权人: 河北工程大学
- 当前专利权人: 河北工程大学
- 当前专利权人地址: 河北省邯郸市经济技术开发区太极路19号
- 代理机构: 河北国维致远知识产权代理有限公司
- 代理商 李然
- 主分类号: H01J49/06
- IPC分类号: H01J49/06 ; H01J49/04 ; H01J49/26 ; H01J49/10
摘要:
本发明提供了一种气相分子电离腔体装置,包括绝缘管和多个离子透镜模块;其中,绝缘管的管壁沿其轴向间隔分布有多个螺纹气孔,且每个螺纹气孔均与绝缘管的内腔贯通;多个离子透镜模块依次间隔套设于绝缘管上,每个离子透镜模块上均设有电极柱,且至少一个离子透镜模块上设有气路接头,气路接头径向贯穿离子透镜模块并与其中一个螺纹气孔旋接配合。本发明提供的气相分子电离腔体装置,利用绝缘管能够在离子透镜模块内部形成绝缘腔体,从而防止腔体中的母体离子和/或气相产物离子与离子透镜模块的金属电极表面直接碰撞而产生损耗,从而保证气相产物离子的离子信号强度,不仅能够提高电离效率,还能提升分析仪器的检测灵敏度。