- 专利标题: 一种利用辐射固化实现快速干燥制备分离膜的制备方法
-
申请号: CN202311223661.6申请日: 2023-09-21
-
公开(公告)号: CN117244414B公开(公告)日: 2024-05-17
- 发明人: 杨国勇 , 席丹
- 申请人: 苏州苏瑞膜纳米科技有限公司
- 申请人地址: 江苏省苏州市吴中区甪直镇甪直大道888号(博克产业园)I幢1层
- 专利权人: 苏州苏瑞膜纳米科技有限公司
- 当前专利权人: 苏州苏瑞膜纳米科技有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省苏州市吴中区甪直镇甪直大道888号(博克产业园)I幢1层
- 代理机构: 上海维卓专利代理有限公司
- 代理商 吴彦
- 主分类号: B01D71/06
- IPC分类号: B01D71/06 ; B01D71/68 ; B01D69/02 ; B01D67/00
摘要:
本申请涉及一种利用辐射固化实现快速干燥制备分离膜的制备方法。利用辐射固化实现快速干燥制备分离膜的制备方法包括以下步骤:在基膜上涂覆水相溶液,再涂覆油相溶液,反应30s‑1min后,辐射固化,得分离膜;水相溶液中添加有辐射固化配方,辐射固化配方包括光引发剂、活性稀释剂和预聚物,或油相溶液中添加有辐射固化配方,或水相溶液中添加有光引发剂,油相溶液中添加有活性稀释剂和预聚物,或水相溶液中添加有活性稀释剂和预聚物,油相溶液中添加有光引发剂。本申请通过在反应单体中添加辐射固化配方,利用辐射能在分离膜进行涂布后实现快速固化干燥。
公开/授权文献
- CN117244414A 一种利用辐射固化实现快速干燥制备分离膜的制备方法 公开/授权日:2023-12-19