发明授权
- 专利标题: 一种双面晶片抛光机
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申请号: CN202311505862.5申请日: 2023-11-13
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公开(公告)号: CN117325063B公开(公告)日: 2024-04-30
- 发明人: 奂微微 , 郭军 , 顾德进 , 刘媛 , 杨锋
- 申请人: 湖北五方晶体有限公司
- 申请人地址: 湖北省荆州市荆州开发区深圳大道55号5栋4号车间(自主申报)
- 专利权人: 湖北五方晶体有限公司
- 当前专利权人: 湖北五方晶体有限公司
- 当前专利权人地址: 湖北省荆州市荆州开发区深圳大道55号5栋4号车间(自主申报)
- 代理机构: 北京天奇智新知识产权代理有限公司
- 代理商 吴楚
- 主分类号: B24B29/02
- IPC分类号: B24B29/02 ; B24B41/04 ; B24B45/00 ; B24B47/22 ; B24B55/06
摘要:
本发明公开了一种双面晶片抛光机,包括箱体、转动机构、上下料机构、清理机构、辅助机构、定位机构、限位机构、顶升机构、防护机构和驱动机构,所述箱体的一端设置有对抛光盘以及清理时方向调节的转动机构,所述转动机构的一侧设置有对抛光盘取放时的上下料机构;本发明通过转动机构的设置,可用于对自动切换更换时实现方向以及高度位置的调节作业,而上下料机构则利于对更换时对盘体进行支撑载放,同时方便进行取放作业,第一电机起到方向调整的作用,电动滑台可调节所需的高度位置,第一电动推杆起到位置延伸调节的作用,载架、支撑杆和支撑座则对盘体完成支撑,从而方便进行上下料工作。
公开/授权文献
- CN117325063A 一种双面晶片抛光机 公开/授权日:2024-01-02