发明公开
CN117337632A 覆晶薄膜及显示装置
审中-实审
- 专利标题: 覆晶薄膜及显示装置
-
申请号: CN202280000951.1申请日: 2022-04-27
-
公开(公告)号: CN117337632A公开(公告)日: 2024-01-02
- 发明人: 冯博 , 杨炜帆 , 刘磊 , 尹晓峰
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京律智知识产权代理有限公司
- 代理商 王辉
- 国际申请: PCT/CN2022/089641 2022.04.27
- 国际公布: WO2023/206159 ZH 2023.11.02
- 进入国家日期: 2022-04-28
- 主分类号: H10K59/131
- IPC分类号: H10K59/131 ; G02F1/1362
摘要:
一种覆晶薄膜(30)及显示装置,覆晶薄膜(30)包括基底层(31)、导体层(32)、保护层(35)以及多根介电条(33);导体层(32)设于基底层(31)的一侧,导体层(32)包括多根沿第一方向排列的连接导线(321),相邻两根连接导线(321)之间设置有间隙(322);至少部分间隙(322)内设有介电条(33),且介电条(33)的在第二方向长度小于或等于间隙(322)在第二方向的长度,第二方向与第一方向相交;保护层(35)设于导体层(32)和介电条(33)远离基底层(31)的一侧,介电条(33)的介电常数大于保护层(35)的介电常数。该覆晶薄膜(30)可以进行电容补偿。