发明授权
CN1174396C 曝光设备与曝光方法
失效 - 权利终止
- 专利标题： 曝光设备与曝光方法
- 专利标题（英）： Exposure equipment and exposure method
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申请号： CN00122461.1申请日： 2000-07-31
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公开(公告)号： CN1174396C公开(公告)日： 2004-11-03
- 发明人: 武田実 , 古木基裕 , 今西慎悟
- 申请人： 索尼株式会社
- 申请人地址： 日本东京
- 专利权人： 索尼株式会社
- 当前专利权人： 索尼株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京
- 代理机构： 上海专利商标事务所
- 代理商 洪玲
- 优先权： 214562/1999 1999.07.29 JP
- 主分类号： G11B7/22
- IPC分类号： G11B7/22 ; G11B7/125 ; G11B7/135
摘要：
揭示了一种曝光设备和曝光方法。例如，把准备用于制备光盘的主盘装到曝光装置上，以便对记录密度基本上提高的光盘的主盘进行曝光。由SHG发射的波长为300nm或更短的曝光激光束经调制器的调制，用数值孔径为1.0或更大的物镜利用近场效应加到主盘。
公开/授权文献
- CN1282956A 曝光设备与曝光方法 公开/授权日：2001-02-07
IPC分类:
