本公开涉及一种无掩模曝光装置和一种显示装置。该无掩模曝光装置包括：光源，用于发射曝光光束；光调制器，用于根据曝光图案调制曝光光束；光学系统，用于以光束点阵列的形式将已调制的曝光光束传送到基底上；位置确定单元，用于生成在光束点阵列和基底之间的相对位置数据；以及控制单元，用于基于从位置确定单元接收的相对位置数据控制光调制器。光束点阵列包括交替地设置的多个对准区域和多个失准区域、与多个对准区域重叠的开启/关闭点、以及中立点，中立点与多个失准区域重叠，并且在中立点处，基底没有被已调制的曝光光束照射，并且在第一时间点时的彼此相邻的开启/关闭点的距离与在第二时间点时的彼此相邻的开启/关闭点的距离不同。