发明公开
- 专利标题： 一种高选择透过性阴膜的制备方法
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申请号： CN202311564176.5申请日： 2023-11-22
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公开(公告)号： CN117482767A公开(公告)日： 2024-02-02
- 发明人: 卿波 , 黄伟平 , 楼照 , 廖巧
- 申请人： 杭州蓝然技术股份有限公司
- 申请人地址： 浙江省杭州市余杭区仓前街道褚家塘路17号蓝然科创园1幢7楼
- 专利权人： 杭州蓝然技术股份有限公司
- 当前专利权人： 杭州蓝然技术股份有限公司
- 当前专利权人地址： 浙江省杭州市余杭区仓前街道褚家塘路17号蓝然科创园1幢7楼
- 代理机构： 浙江永鼎律师事务所
- 代理商 周希良
- 主分类号： B01D71/82
- IPC分类号： B01D71/82 ; B01D69/02 ; B01D67/00
摘要：
本发明属于阴离子交换膜技术领域，具体涉及一种高选择透过性阴膜的制备方法，包括配制膜液、含浸、聚合、氯甲基化及胺化，在配制膜液过程中对膜液进行预聚合，以使预聚物的粘度达到200～500dPa·s。通过本发明的高选择透过性阴膜的制备方法制得的阴膜，其选择透过率高于95％。