本发明属于光刻胶技术领域，涉及一种高附着力酸性单体、黑色光刻胶及其制备方法。所述高附着力酸性单体是通过将感光性单体、酸酐、阻聚剂、催化剂分别加入溶剂中混合反应合成，且所述高附着力酸性单体的酸值为35～45KOH mg/g。所述黑色光刻胶，按重量份数计，包括：黑色色浆30～50份、碱可溶树脂5～20份、高附着力酸性单体8～12份、引发剂3～5份、硅烷偶联剂0.2～1份、流平剂0.2～1份、有机溶剂20～50份。该黑色光刻胶基于自制的黑色色浆和高附着力酸性单体，能够耐酸性溶液攻击和碱性溶液攻击，同时满足酸性蚀刻工艺和碱性蚀刻工艺的要求，且满足不同金属基板的需求。