发明公开
- 专利标题: 一种基叶贝斯神经网络的结构光条纹图案分析方法
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申请号: CN202311470253.0申请日: 2023-11-07
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公开(公告)号: CN117522941A公开(公告)日: 2024-02-06
- 发明人: 朱勇建 , 张辰宇
- 申请人: 上海应用技术大学
- 申请人地址: 上海市徐汇区漕宝路120-121号
- 专利权人: 上海应用技术大学
- 当前专利权人: 上海应用技术大学
- 当前专利权人地址: 上海市徐汇区漕宝路120-121号
- 代理机构: 上海邦德专利代理事务所
- 代理商 崔双双
- 主分类号: G06T7/521
- IPC分类号: G06T7/521 ; G06T17/00 ; G06N3/047 ; G06N3/042 ; G06N3/08 ; G01B11/25
摘要:
本发明公开了一种基叶贝斯神经网络的结构光条纹图案分析方法,包括:S1、建构投影系统,通过相机捕捉被投影的条纹图案;S2、通过计算机生成适当的正弦波条纹图案;S3、通过投影系统投影系统将生成的条纹图案投影到目标物体上;S4、使用相机捕捉被投影条纹图案的目标物体的图像,确保相机和投影系统之间的相对位置和角度准确;S5、比较投影前后的条纹图案,计算每个像素点的相位差异;S6、使用计算机算法根据相位信息来重建目标物体的三维形状;S7、对重建的三维形状进行进一步的分析和应用。根据本发明,大大提高了从单一条纹图案解调相位的精度,具有更高的精度和更好的边缘保持能力。