发明公开
- 专利标题: 获得低粗糙度釉面效果的釉料及浅色系陶瓷岩板制备方法
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申请号: CN202311431033.7申请日: 2023-10-31
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公开(公告)号: CN117585907A公开(公告)日: 2024-02-23
- 发明人: 潘超宪 , 盛正强 , 戴怀方 , 宋干飞 , 汪祖锐 , 杨庆霞 , 许永来
- 申请人: 江西唯美陶瓷有限公司 , 江西和美陶瓷有限公司 , 东莞市唯美陶瓷工业园有限公司 , 马可波罗控股股份有限公司
- 申请人地址: 江西省宜春市丰城市高新技术产业园区火炬大道31号
- 专利权人: 江西唯美陶瓷有限公司,江西和美陶瓷有限公司,东莞市唯美陶瓷工业园有限公司,马可波罗控股股份有限公司
- 当前专利权人: 江西唯美陶瓷有限公司,江西和美陶瓷有限公司,东莞市唯美陶瓷工业园有限公司,马可波罗控股股份有限公司
- 当前专利权人地址: 江西省宜春市丰城市高新技术产业园区火炬大道31号
- 代理机构: 深圳市惠邦知识产权代理事务所
- 代理商 满群
- 主分类号: C03C8/04
- IPC分类号: C03C8/04 ; C03C8/00 ; C03C8/14 ; C04B41/89
摘要:
本发明涉及获得低粗糙度釉面效果的釉料及浅色系陶瓷岩板制备方法。获得低粗糙度釉面效果的釉料,按重量份由以下组分组成:荧光屏玻璃渣10~22份,硅灰石1~5份,钾长石15~25份,高岭土5~10份,天青石0~2份,熔制物料粉40~50份。获得低粗糙度釉面效果的釉料制备方法,包括步骤:按获得低粗糙度釉面效果的釉料配方称好物料,外加入0.3份羧甲基纤维素钠和0.5份三聚磷酸钠、40份水,采用间歇式球磨方式进行球磨,球磨至釉料细度325目筛余0.4~0.8%,釉料颗粒级配分布跨度span﹤3,恩氏黏度40~50s,比重1.82~1.85,放浆,得到获得低粗糙度釉面效果的釉料。