发明公开
- 专利标题: 基于波导刻蚀结构的光纤耦合器件及其制备方法
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申请号: CN202311655568.2申请日: 2023-12-01
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公开(公告)号: CN117631151A公开(公告)日: 2024-03-01
- 发明人: 姚佳成 , 张硕 , 崔索超 , 王康 , 沈征征 , 李阜徽
- 申请人: 华中光电技术研究所(中国船舶集团有限公司第七一七研究所)
- 申请人地址: 湖北省武汉市江夏区阳光大道717号
- 专利权人: 华中光电技术研究所(中国船舶集团有限公司第七一七研究所)
- 当前专利权人: 华中光电技术研究所(中国船舶集团有限公司第七一七研究所)
- 当前专利权人地址: 湖北省武汉市江夏区阳光大道717号
- 代理机构: 中国船舶专利中心
- 代理商 何新
- 主分类号: G02B6/28
- IPC分类号: G02B6/28 ; G02B6/255
摘要:
本发明涉及光无源器件技术领域,尤其涉及一种基于波导刻蚀结构的光纤耦合器件及其制备方法。光纤耦合器件包括传输光纤、无芯光纤以及晶体回音壁微腔;传输光纤包括第一光纤和第二光纤;无芯光纤内刻蚀形成有依次连接的第一过渡区波导、耦合区波导以及第二过渡区波导,第一过渡区波导的输入端与第一光纤的纤芯连接,第二过渡区波导的输出端与第二光纤的纤芯连接,其中耦合区波导位于无芯光纤的包层侧壁处且耦合区波导的中心线与无芯光纤的中心线不重合;晶体回音壁微腔与耦合区波导耦合。本发明通过在无芯光纤内刻蚀弯曲光波导结构以在光纤包层侧壁激发倏逝波来进行耦合的方法,保证了光纤在耦合区域的机械强度,大大提高了光纤耦合的稳定性。