发明公开
- 专利标题： 一种低吸收高发射耐大剂量电离辐照热控涂层及制备方法
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申请号： CN202311557130.0申请日： 2023-11-21
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公开(公告)号： CN117659748A公开(公告)日： 2024-03-08
- 发明人: 张杭 , 张家强 , 白晶莹 , 何楠 , 平托 , 郑琰 , 崔庆新 , 张立功
- 申请人： 北京卫星制造厂有限公司
- 申请人地址： 北京市海淀区知春路63号
- 专利权人： 北京卫星制造厂有限公司
- 当前专利权人： 北京卫星制造厂有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市海淀区知春路63号
- 代理机构： 中国航天科技专利中心
- 代理商 贾文婷
- 主分类号： C09D1/00
- IPC分类号： C09D1/00 ; B64G1/50 ; B64G1/52 ; B64G1/54 ; C09D5/00 ; C09D7/62 ; C09D7/61 ; C09D1/02 ; C09D5/33 ; B05D5/00 ; B05D7/00
摘要：
一种低吸收高发射耐大剂量电离辐照热控涂层及制备方法，涉及航天器热控涂层领域，热控涂层包括在基材表面依次设置的底涂层、中涂层和面涂层；底涂层包括硫酸钡、氧化铈、和黏结剂；中涂层包括空心玻璃微珠、黏结剂、和无机分散剂；面涂层包括氧化铟锡、黏结剂。大幅度增加了对太阳光不同光谱能量的散射能力和真空电离辐照的耐受性，使之能够满足现代新型航天器高精度、长寿命的设计要求。
IPC分类:
