发明公开
- 专利标题： 提高涂层与基底材料间牢度的方法
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申请号： CN202311625184.6申请日： 2023-11-30
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公开(公告)号： CN117661313A公开(公告)日： 2024-03-08
- 发明人: 陈凤翔 , 张玉 , 何安南 , 骆宇新 , 柯贵珍 , 邢桐贺 , 王梦琦 , 史芷丞 , 乔思杰 , 童爱心 , 黄智宇 , 梁子辉 , 刘欣 , 徐卫林
- 申请人： 武汉纺织大学
- 申请人地址： 湖北省武汉市江夏区阳光大道1号
- 专利权人： 武汉纺织大学
- 当前专利权人： 武汉纺织大学
- 当前专利权人地址： 湖北省武汉市江夏区阳光大道1号
- 代理机构： 武汉卓越志诚知识产权代理事务所
- 代理商 戴宝松
- 主分类号： D06M11/46
- IPC分类号： D06M11/46 ; D06M11/44 ; D06M101/40
摘要：
本发明提供了一种提高涂层与基底材料间牢度的方法，通过对已含有涂层的基底材料及其涂层的内部和表面通过化学键合由内至外的完全渗透生长渗透材料，利用渗透材料与涂层、基底材料间的连续性的键合生长，以提高涂层与基底材料间的牢度。
IPC分类:
