- 专利标题: 高温工作单光子探测器、单光子焦平面探测器及制备方法
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申请号: CN202410138568.3申请日: 2024-02-01
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公开(公告)号: CN117690986A公开(公告)日: 2024-03-12
- 发明人: 史衍丽
- 申请人: 云南大学
- 申请人地址: 云南省昆明市呈贡区大学城东外环南路
- 专利权人: 云南大学
- 当前专利权人: 云南大学
- 当前专利权人地址: 云南省昆明市呈贡区大学城东外环南路
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 王文思
- 主分类号: H01L31/0352
- IPC分类号: H01L31/0352 ; H01L27/144 ; H01L31/0232 ; H01L31/107 ; H01L31/18
摘要:
本发明提供一种高温工作单光子探测器、单光子焦平面探测器及制备方法,是能够探测单个光子的光电传感器,包括:衬底;外延层结构,包括依次叠设于衬底上的吸收层、递变层、场控制层和倍增层;递变层用于消除吸收层与场控制层之间的能带陡变;倍增层中部为凹形结构,凹形结构的中心倍增区厚度小于非中心倍增区厚度,形成中心位置电场大于边缘位置电场的阶梯形电场且中心电场到边缘电场连续;通过调节场控制层的面电荷密度和倍增区的厚度降低吸收层和倍增区的电场、场致辅助隧穿和带间隧穿的电流。该探测器实现了高温工作和高计数率下的高效探测,体积小,成本低;高温使倍增区里被俘获的陷阱载流子快速脱陷,死时间短,后脉冲小。
公开/授权文献
- CN117690986B 高温工作单光子探测器、单光子焦平面探测器及制备方法 公开/授权日:2024-05-03