发明公开
- 专利标题: 一种表征SiC MOSFET功率器件结温和热阻的方法
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申请号: CN202311508010.1申请日: 2023-11-14
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公开(公告)号: CN117723921A公开(公告)日: 2024-03-19
- 发明人: 陈凡 , 孔泽斌 , 张丹 , 琚安安 , 刘元 , 王昆黍 , 祝伟明 , 余学峰 , 郭旗
- 申请人: 上海精密计量测试研究所
- 申请人地址: 上海市闵行区元江路3888号
- 专利权人: 上海精密计量测试研究所
- 当前专利权人: 上海精密计量测试研究所
- 当前专利权人地址: 上海市闵行区元江路3888号
- 代理机构: 上海航天局专利中心
- 代理商 王海涛
- 主分类号: G01R31/26
- IPC分类号: G01R31/26
摘要:
本发明的基于栅源电压表征SiC MOSFET功率器件结温和热阻的方法,其步骤包括:设计SiC MOSFET器件瞬态热阻测试电路,使漏极电流Id和漏源电压Vds维持恒定值。通过恒温油槽使SiC MOSFET器件升温,在热稳态下校准其栅源电压Vgs和结温Tj关系曲线。通过恒定的漏电流Id和漏源电压Vds使SiC MOSFET器件升温,实时监测栅源电压Vgs曲线,结合栅源电压Vgs‑结温Tj关系公式,反推结温Tj曲线。对SiC MOSFET器件结温曲线Tj进行变换,得到瞬态热阻曲线Zth(t)。对SiC MOSFET器件瞬态热阻曲线Zth(t)进行变换,得到微分结构函数曲线,提取各封装结构单元热阻参数。针对SiC基和Si基器件的差异,本发明设计了适用电路,构建了栅源电压Vgs和结温Tj的对应关系,解决了无法通过寄生二极管电压降实时监测SiC MOSFET器件结温的不足。