本发明公开了一种磁控溅射镀膜设备的真空系统，包括真空室，真空室上设有抽真空装置，真空室的入口处设有密封阀门装置；密封阀门装置包括门体和负压器，门体在位于入口的一侧周向设有一圈密封槽，门体内设有中空腔，中空腔通过气孔与密封槽连通，负压器通过管路与中空腔连通。通过密封阀门装置的门体盖在入口处，负压器把密封槽内的空气抽走，门体压紧在真空室的入口处，再经抽真空装置把真空室内空气抽走形成真空，减少在门体周围的溢气，提高了真空室的入口处的密封效果，室内更容易形成真空环境，真空效果更好；通过负压器连通中空腔在密封槽处形成负压，将门体密封住，结构简单、使用容易。