发明公开
CN117766331A 屏蔽装置及真空灭弧室
审中-实审
- 专利标题: 屏蔽装置及真空灭弧室
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申请号: CN202211135820.2申请日: 2022-09-19
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公开(公告)号: CN117766331A公开(公告)日: 2024-03-26
- 发明人: 毕冬丽 , 李春香
- 申请人: 陕西宝光真空电器股份有限公司
- 申请人地址: 陕西省宝鸡市渭滨区宝光路53号
- 专利权人: 陕西宝光真空电器股份有限公司
- 当前专利权人: 陕西宝光真空电器股份有限公司
- 当前专利权人地址: 陕西省宝鸡市渭滨区宝光路53号
- 代理机构: 北京品源专利代理有限公司
- 代理商 王士强
- 主分类号: H01H33/662
- IPC分类号: H01H33/662
摘要:
本发明涉及真空灭弧室,公开了一种屏蔽装置及真空灭弧室,通过屏蔽筒和均压封接环将动电极、静电极与绝缘外壳的内壁完全隔开,使动电极和静电极开合瞬间产生的电弧没有喷射到绝缘外壳内壁的通道,保护绝缘外壳的内壁不受污染,保证绝缘外壳内壁的洁净,不仅能够保证真空灭弧室的弧后绝缘不会下降;还能够使真空灭弧室屏蔽电弧的能力更强,提高真空灭弧室的静态绝缘性,可以利用真空灭弧室的静态绝缘性能进行充分的电流老炼,彻底去除动电极、静电极表层的杂质及氧化层,保证真空灭弧室的绝缘性能不会下降,减少出现非持续击穿放电现象的概率,从而使老炼过的真空灭弧室能够满足C2级切容性电流要求。