Invention Publication
CN117784265A 辐射检查系统
审中-实审
- Patent Title: 辐射检查系统
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Application No.: CN202311835696.5Application Date: 2023-12-28
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Publication No.: CN117784265APublication Date: 2024-03-29
- Inventor: 李元景 , 宗春光 , 刘必成 , 马媛 , 迟豪杰 , 刘磊 , 喻卫丰 , 季峥
- Applicant: 清华大学 , 同方威视技术股份有限公司 , 同方威视科技(北京)有限公司
- Applicant Address: 北京市海淀区清华园; ;
- Assignee: 清华大学,同方威视技术股份有限公司,同方威视科技(北京)有限公司
- Current Assignee: 清华大学,同方威视技术股份有限公司,同方威视科技(北京)有限公司
- Current Assignee Address: 北京市海淀区清华园; ;
- Agency: 中国贸促会专利商标事务所有限公司
- Agent 张文超
- Main IPC: G01V5/22
- IPC: G01V5/22 ; G01N23/04

Abstract:
本公开涉及一种辐射检查系统,用于对被检对象(101)进行扫描检查,辐射检查系统包括:第一光源(1),包括沿高度方向(z)间隔设置的多个子光源(11),多个子光源(11)被配置为独立发出射线束;透射探测器组件(2),与第一光源(1)沿第一方向(x)相对间隔设置形成检查通道(3),检查通道(3)用于供被检对象(101)通过且沿第二方向(y)延伸,透射探测器组件(2)被配置为接收第一光源(1)的透射光束;和准直器(4),位于第一光源(1)和透射探测器组件(2)之间且靠近第一光源(1)所在侧,准直器(4)设有沿高度方向(z)设置的多个准直口(41),多个准直口(41)被配置为限制多个子光源(11)发出光束的形状。
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