Invention Publication
CN117826541A 一种光刻机的清洁方法
审中-实审
- Patent Title: 一种光刻机的清洁方法
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Application No.: CN202410045349.0Application Date: 2024-01-11
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Publication No.: CN117826541APublication Date: 2024-04-05
- Inventor: 杨道虹 , 冯泳强 , 谢冬
- Applicant: 湖北江城实验室
- Applicant Address: 湖北省武汉市武汉东湖新技术开发区光谷一路227号3号楼
- Assignee: 湖北江城实验室
- Current Assignee: 湖北江城实验室
- Current Assignee Address: 湖北省武汉市武汉东湖新技术开发区光谷一路227号3号楼
- Agency: 北京派特恩知识产权代理有限公司
- Agent 王世璇; 张颖玲
- Main IPC: G03F7/20
- IPC: G03F7/20 ; B08B7/00
Abstract:
本公开实施例提供了一种光刻机的清洁方法，光刻机包括载台、设置于载台上方的物镜以及用于提供曝光光束的曝光光源，载台上附着有污染物；清洁方法包括：提供控片，将控片置于载台上；对控片执行曝光工艺，曝光光源通过物镜向控片辐射曝光光束以加热控片，控片将热量传递至附着在载台上的污染物，以降低污染物与载台之间的粘附性。
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IPC分类:
