- 专利标题: 发光二极管外延片及其制备方法、发光二极管
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申请号: CN202410288686.2申请日: 2024-03-14
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公开(公告)号: CN117894895B公开(公告)日: 2024-06-11
- 发明人: 舒俊 , 程龙 , 高虹 , 郑文杰 , 印从飞 , 张彩霞 , 刘春杨 , 胡加辉 , 金从龙
- 申请人: 江西兆驰半导体有限公司
- 申请人地址: 江西省南昌市南昌高新技术产业开发区天祥北大道1717号
- 专利权人: 江西兆驰半导体有限公司
- 当前专利权人: 江西兆驰半导体有限公司
- 当前专利权人地址: 江西省南昌市南昌高新技术产业开发区天祥北大道1717号
- 代理机构: 广州三环专利商标代理有限公司
- 代理商 李素兰
- 主分类号: H01L33/06
- IPC分类号: H01L33/06 ; H01L33/14 ; H01L33/00 ; H01L33/32 ; C30B29/40 ; C30B33/12 ; C30B33/02
摘要:
本发明公开了一种发光二极管外延片及其制备方法、发光二极管,涉及半导体光电器件领域。发光二极管外延片包括衬底和依次设于所述衬底上的缓冲层、非掺杂GaN层、N型GaN层、多量子阱层、电子阻挡层和P型GaN层,所述电子阻挡层包括依次层叠的AlN层、第一超晶格层和第二超晶格层;所述第一超晶格层包括交替层叠的Alx1Ga1‑x1N层和Iny1Ga1‑y1N层;所述第二超晶格层包括交替层叠的Alx2Ga1‑x2N层、Iny2Ga1‑y2N层和Iny3Ga1‑y3N层;其中,x1≥x2,y1≥y3,y2≠y3。实施本发明,可提升发光二极管的发光效率。
公开/授权文献
- CN117894895A 发光二极管外延片及其制备方法、发光二极管 公开/授权日:2024-04-16
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