发明公开
CN117904633A 不伤铜的铝蚀刻液
审中-实审
- 专利标题： 不伤铜的铝蚀刻液
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申请号： CN202410087904.6申请日： 2024-01-22
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公开(公告)号： CN117904633A公开(公告)日： 2024-04-19
- 发明人: 邱柱 , 杜冰 , 梁豹 , 张兵 , 向文胜 , 赵建龙
- 申请人： 江苏艾森半导体材料股份有限公司 , 艾森半导体材料(南通)有限公司
- 申请人地址： 江苏省苏州市昆山市千灯镇黄浦江路1647号;
- 专利权人： 江苏艾森半导体材料股份有限公司,艾森半导体材料(南通)有限公司
- 当前专利权人： 江苏艾森半导体材料股份有限公司,艾森半导体材料(南通)有限公司
- 当前专利权人地址： 江苏省苏州市昆山市千灯镇黄浦江路1647号;
- 代理机构： 苏州三英知识产权代理有限公司
- 代理商 朱如松
- 主分类号： C23F1/20
- IPC分类号： C23F1/20
摘要：
本发明公开了不伤铜的铝蚀刻液，其原料的投料组成包括，wt％：50％‑65％磷酸；5％‑10％醋酸；1％‑6％间硝基苯磺酸钠；1％‑10％缓蚀剂；1％‑5％表面活性剂；余量为水。本发明方案组成简单，通过优化蚀刻液的组成，消除传统配方中的强氧化性和强酸性的组成，从而有效地改善了刻蚀液的刻蚀选择性，并且具有更高的使用安全性和刻蚀过程可控性。
IPC分类:
