发明公开
- 专利标题: 一种用于低聚反应的装置和低聚方法及应用
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申请号: CN202211364919.X申请日: 2022-11-02
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公开(公告)号: CN117983174A公开(公告)日: 2024-05-07
- 发明人: 胡嵩霜 , 吴春红 , 吴红飞 , 王霄青 , 潘峰 , 郑明芳 , 冯贺英
- 申请人: 中国石油化工股份有限公司 , 中石化(北京)化工研究院有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区朝阳门北大街22号;
- 专利权人: 中国石油化工股份有限公司,中石化(北京)化工研究院有限公司
- 当前专利权人: 中国石油化工股份有限公司,中石化(北京)化工研究院有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区朝阳门北大街22号;
- 代理机构: 北京聿宏知识产权代理有限公司
- 代理商 吴大建; 邓树山
- 主分类号: B01J19/26
- IPC分类号: B01J19/26 ; C07C2/32 ; C07C11/02 ; C07C11/107 ; B01J4/00
摘要:
本发明公开了一种用于低聚反应的装置和低聚方法及应用。该反应器包括釜体、在釜体内部的从上之下设置的液体进料腔、气液混合喷射部件、反应腔以及垂直的搅拌轴;釜体的表面且于液体进料腔位置设置第一溶剂进料口;釜体的表面且于气液混合喷射部件位置设置烯烃进料口;釜体的表面且于反应腔位置设置主催化剂进料口、第二溶剂进料口和助催化剂进料口;第一溶剂进料口通入液体进料腔的第一溶剂进入气液混合喷射部件,并与烯烃进料口通入的烯烃在气液混合喷射部件进行混合,然后喷射至反应腔并与主催化剂、第二溶剂和助催化剂进行反应。本发明反应器和方法可以有效防止烯烃入口处积垢,反应器能长时间稳定地运转。