发明公开
- 专利标题: 一种激光器和成像器的同轴调节系统和方法
-
申请号: CN202410040065.2申请日: 2024-01-10
-
公开(公告)号: CN117991518A公开(公告)日: 2024-05-07
- 发明人: 刘亚超 , 魏阿满 , 崔洪 , 葛寒月 , 潘建宇
- 申请人: 北京环境特性研究所
- 申请人地址: 北京市海淀区永定路50号
- 专利权人: 北京环境特性研究所
- 当前专利权人: 北京环境特性研究所
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区永定路50号
- 代理机构: 北京格允知识产权代理有限公司
- 代理商 李亚东
- 主分类号: G02B27/62
- IPC分类号: G02B27/62 ; G01D21/00 ; G05D3/10
摘要:
本发明涉及成像技术领域,特别涉及一种激光器和成像器的同轴调节系统和方法。该同轴调节系统,包括激光器、成像器、两个调节装置、平行光管;所述平行光管的靶面用于发射出平行光,所述靶面设置有标记,所述激光器的发射端和所述成像器的接收端均对准所述标记,所述激光器和所述成像器分别连接有两个所述调节装置,一个所述调节装置用于调节所述成像器的高度、方位角和俯仰角,以使所述标记位于所述成像器的输出图像的中心,另一个所述调节装置用于调节所述激光器的高度、方位角和俯仰角,以使所述激光器输出的激光光斑落在所述标记的中心。本发明实施例提供了一种激光器和成像器的同轴调节系统和方法,能够使激光器和成像器具有较好的同轴性。