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CN118026087A 一种微纳结构加工方法
审中-实审
摘要：
本发明属于微纳制造领域，涉及一种微纳结构加工方法，包括如下步骤：S1离子束辐照待加工区域，使待加工区域材料发生非晶化得到非晶层；S2激光辐照修复由S1离子束辐照产生的非晶层以外的亚表面晶格损伤；S3湿法刻蚀去掉S1得到的非晶层，获得具有纳米至亚纳米量级表面粗糙度的微纳结构。通过三个方法步骤协同配合，实现了难加工材料微纳结构的高精度、高表面完整性、批量化制造。