发明公开
- 专利标题: 一种激光熔覆改善纯铜性能的方法
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申请号: CN202211518816.4申请日: 2022-11-30
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公开(公告)号: CN118109796A公开(公告)日: 2024-05-31
- 发明人: 刘小春 , 王文吉 , 刘玉敬 , 吴翔 , 张家璇 , 刘德华
- 申请人: 长沙理工大学
- 申请人地址: 湖南省长沙市天心区赤岭路45号
- 专利权人: 长沙理工大学
- 当前专利权人: 长沙理工大学
- 当前专利权人地址: 湖南省长沙市天心区赤岭路45号
- 代理机构: 深圳市合道英联专利事务所
- 代理商 廉红果
- 主分类号: C23C14/58
- IPC分类号: C23C14/58 ; C23C14/16 ; C23C14/35 ; C22F1/18 ; C22F1/08 ; C23F17/00 ; C22F3/00
摘要:
本发明公开了一种激光熔覆改善纯铜性能的方法,该方法具体包括以下步骤:S1、通过线切割对纯铜进行电火花切割制样;S2、对电火花切割后的样品进行表面预处理,得到预处理后的样品;S3、采用磁控溅射工艺对预处理后的样品表面进行TC18钛合金沉积,得到沉积后的铜样品;S4、对沉积后的铜样品进行激光处理,得到改善后的铜制品。本发明的优势在于,1)本发明方法仅需利用磁控溅射在纯铜表面沉积一层很薄的TC18就可以提高吸光率的目的;且该处理工艺简单,可以利用激光对纯铜进行表面处理;2)本发明的优势在于经过表面激光处理,材料的塑性和强度都有提高,通过改变纯铜的表面的结构,为纯铜的表面激光处理提供了新思路。
IPC分类: