本发明涉及真空电子束预熔技术领域，具体为一种可提高连续预熔效率的真空电子束预熔设备，包括外壳体，所述真空预熔腔体的左右两侧面内壁均安装有防着板，防着板的侧面安装有加热灯；所述上冷却板的下方设置有坩埚本体，坩埚本体的下方设置有下冷却板，所述电子束加热机构的两侧安装有高压电阻；所述真空预熔腔体的底面安装有带动坩埚本体旋转的旋转控制组件；所述坩埚本体的上表面等间距开设有放置槽。该可提高连续预熔效率的真空电子束预熔设备，提高了真空预熔腔体内的真空度，继而使得预熔设备很好的在超高真空下对物料进行预熔作业，提高了物料预熔的纯度，可连续式的对六个坩埚套内的物料进行预融作业，提高了预熔的效率。