发明公开
- 专利标题: 介质处理装置及搭载该装置的图像形成系统
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申请号: CN202280077166.6申请日: 2022-11-18
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公开(公告)号: CN118284572A公开(公告)日: 2024-07-02
- 发明人: 佐佐木圭 , 濑户一贵 , 杉山惠介
- 申请人: 株式会社理光
- 申请人地址: 日本东京
- 专利权人: 株式会社理光
- 当前专利权人: 株式会社理光
- 当前专利权人地址: 日本东京
- 代理机构: 北京纪凯知识产权代理有限公司
- 代理商 徐东升
- 优先权: 2022-175720 20221101 JP 2022-175720 20221101 JP 2022-175720 20221101 JP
- 国际申请: PCT/IB2022/061125 2022.11.18
- 国际公布: WO2023/094953 EN 2023.06.01
- 进入国家日期: 2024-05-21
- 主分类号: B65H37/04
- IPC分类号: B65H37/04 ; B31F1/36 ; B42B5/00 ; G03G15/00 ; H04N1/00 ; B31F5/02
摘要:
介质处理装置包括输送单元(10‑19)、液体赋予器(31)、压接器(32)、液体赋予器枢转机构(52)、及压接器枢转机构(54)。输送单元沿输送方向输送介质。液体赋予器对由输送单元(10‑19)输送的介质(P)赋予液体。压接器(32)按压包括由所述液体赋予器(31)赋予所述液体的所述介质(P)的多个介质并使所述多个介质变形,以装订所述多个介质。液体赋予器枢转机构(52)使所述液体赋予器围绕沿所述介质的厚度方向延伸的枢轴枢转。压接器枢转机构(54)使所述压接器围绕沿所述介质的厚度方向延伸的另一枢轴枢转。