本申请涉及一种半导体用等静压石墨坩埚打磨控制系统，涉及等静压石墨的技术领域，包括打磨箱、控制模块、打磨模块、喷淋模块和负压模块，打磨模块用于对坩埚表面进行打磨，喷淋模块用于对坩埚表面进行喷淋，打磨箱的下方设置排出管，排出管上设有三通阀，负压模块通过三通阀的一出口和打磨箱相连通，控制模块控制打磨模块对坩埚进行打磨，并控制负压模块对打磨箱内进行抽吸，使得打磨箱内处于负压，在打磨完成后，控制喷淋模块对坩埚表面进行喷淋，并控制三通阀切换，使得喷淋液从三通阀的另一出口排出。本申请具有能够减低粉尘飘散至车间的概率的优点。