本发明公开了一种半导体外延长晶用石墨载盘的使用方法，石墨载盘包括由多个子盘体相互拼接而成的载盘本体，于内座体的下端构造有连接管，于连接管的下端构造有连接接头，于连接管上且位于连接接头的上方开设有多个导通孔，于内座体的上端开设有安装槽，连接管的内腔与安装槽相互连通。本发明的方法为：将多个石墨载盘沿竖向依次连接，将同一型号的硅片或者不同型号的硅片放置在这些石墨载盘上，再将这些石墨载盘放置在开合式反应炉内进行外延作业。本发明能够有效地实现大批量硅片外延的目的，提高了硅片的外延效率，适应不同形态硅片的同步外延作业，提高了外延品质，降低了石墨载盘的耗损成本。本发明适用于半导体外延的技术领域。