滤光片制备方法和滤光片制备装置
摘要:
本申请涉及一种滤光片制备方法和装置。所述方法包括:将衬底置于磁控溅射仪中,在衬底上依次沉积多个膜层以制备滤光片,并在膜层沉积的过程中实时检测膜层的厚度变化率;获取当前沉积的目标膜层,并获取与目标膜层对应的目标参考范围;确定当前检测到的膜层的厚度变化率是否位于目标参考范围内,并根据确定结果调整磁控溅射仪的功率。采用本制备方法能够提高线性渐变滤光片的光学特性。
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