发明公开
CN118451555A 肖特基势垒二极管
审中-实审
- 专利标题: 肖特基势垒二极管
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申请号: CN202380010897.3申请日: 2023-06-08
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公开(公告)号: CN118451555A公开(公告)日: 2024-08-06
- 发明人: 桥本将贵 , 末本龙二 , 仙田悟
- 申请人: 新电元工业株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 新电元工业株式会社
- 当前专利权人: 新电元工业株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京聿宏知识产权代理有限公司
- 代理商 吴大建; 张杰
- 优先权: 2022-194924 20221206 JP
- 国际申请: PCT/JP2023/022170 2023.06.08
- 国际公布: WO2024/122085 JA 2024.06.13
- 进入国家日期: 2023-09-27
- 主分类号: H01L29/872
- IPC分类号: H01L29/872 ; H01L21/329 ; H01L29/06 ; H01L29/47
摘要:
本发明提供能够将肖特基位垒高度(ΦBn)控制为各种各样的值的肖特基势垒二极管。本发明是一种肖特基势垒二极管,其具有:硅层11;以及硅化物层12a,其配置于所述硅层11上且包含Pt和Ni,从所述硅化物层12a和所述硅层11两者的界面向所述硅化物层侧50nm的厚度的硅化物层中的Pt浓度的峰值、或者在所述硅化物层12a的厚度小于50nm的情况下所述硅化物层12a中的Pt浓度的峰值为1at%以上且60at%以下。
IPC分类: