Invention Grant
- Patent Title: 一种聚焦控制方法、装置、电子装置和存储介质
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Application No.: CN202411007682.9Application Date: 2024-07-25
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Publication No.: CN118540581BPublication Date: 2024-10-18
- Inventor: 邓焱文 , 王毅宏 , 夏瑞 , 陈天钧 , 李准 , 邵一轶 , 况璐
- Applicant: 浙江大华技术股份有限公司
- Applicant Address: 浙江省杭州市滨江区滨安路1187号
- Assignee: 浙江大华技术股份有限公司
- Current Assignee: 浙江大华技术股份有限公司
- Current Assignee Address: 浙江省杭州市滨江区滨安路1187号
- Agency: 杭州华进联浙知识产权代理有限公司
- Agent 方道杰
- Main IPC: H04N23/67
- IPC: H04N23/67 ; H04N23/71

Abstract:
本申请涉及一种聚焦控制方法、装置、电子装置和存储介质,其中,该聚焦控制方法包括:获取聚焦电机位于第一聚焦位置时的待聚焦图像,并确定待聚焦图像中的参考光源区域;计算参考光源区域中的子图像块的图像亮度梯度信息,并根据图像亮度梯度信息,从参考光源区域中确定出亮度参考区域;获取亮度参考区域的区域亮度统计信息,并根据图像亮度梯度信息及区域亮度统计信息,计算亮度参考区域的区域评分值;根据区域亮度统计信息及区域评分值,控制聚焦电机行反向进至第二聚焦位置或者正向行进至第三聚焦位置。通过本申请,解决了如何在点光源场景下准确高效进行聚焦的问题,提高了点光源场景下设备聚焦的准确性和效率。
Public/Granted literature
- CN118540581A 一种聚焦控制方法、装置、电子装置和存储介质 Public/Granted day:2024-08-23
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