Invention Grant
- Patent Title: 一种成膜均匀的光学镀膜装置以及镀膜方法
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Application No.: CN202411068068.3Application Date: 2024-08-06
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Publication No.: CN118581438BPublication Date: 2024-10-18
- Inventor: 张春峰 , 王所锋 , 邓文军
- Applicant: 深圳市杰能达实业有限公司
- Applicant Address: 广东省深圳市龙华区观澜街道大布巷社区观光路1303号鸿信工业园6号厂房第3层301A号
- Assignee: 深圳市杰能达实业有限公司
- Current Assignee: 深圳市杰能达实业有限公司
- Current Assignee Address: 广东省深圳市龙华区观澜街道大布巷社区观光路1303号鸿信工业园6号厂房第3层301A号
- Agency: 南通市集优专利代理事务所
- Agent 陈勐哲
- Main IPC: C23C14/50
- IPC: C23C14/50 ; G02B1/10
Abstract:
本发明涉及镀膜设备技术领域,具体公开了一种成膜均匀的光学镀膜装置以及镀膜方法,包括镀膜机主体、门体、驱动结构、翻转结构以及两对载膜结构;所述镀膜机主体设置有镀膜腔体,所述门体一端活动设置于镀膜机主体上且能够将镀膜腔体密封,本发明通过翻转结构和可拆卸安装的夹持组件设计,无需拆卸锅体即可投放镀膜基材,这大大简化了操作流程,节省了时间和人工劳动强度;夹持组件的设计和安装位置可调节,使得机器能够适应不同尺寸的基材,提高了设备的通用性和灵活性;通过翻转结构的设计,可以实现单个锅体的转动,这有助于提高镀膜的均匀性,确保产品质量。
Public/Granted literature
- CN118581438A 一种成膜均匀的光学镀膜装置以及镀膜方法 Public/Granted day:2024-09-03
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IPC分类: