发明公开
- 专利标题: 一种采用琉璃釉的陶瓷及生产工艺
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申请号: CN202411077548.6申请日: 2024-08-07
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公开(公告)号: CN118637889A公开(公告)日: 2024-09-13
- 发明人: 兰俊毅 , 杜见勇 , 李国龙 , 高攀峰 , 郑寅
- 申请人: 湖北武当窑科技发展有限公司
- 申请人地址: 湖北省十堰市郧阳区汉江大道71号212
- 专利权人: 湖北武当窑科技发展有限公司
- 当前专利权人: 湖北武当窑科技发展有限公司
- 当前专利权人地址: 湖北省十堰市郧阳区汉江大道71号212
- 代理机构: 武汉智盛唯佳知识产权代理事务所
- 代理商 杨远见
- 主分类号: C04B33/13
- IPC分类号: C04B33/13 ; C04B33/04 ; C04B33/16 ; C04B33/24 ; C04B33/34 ; C04B41/86 ; C03C8/14
摘要:
本发明公开了一种采用琉璃釉的陶瓷及生产工艺,涉及琉璃釉生产工艺领域,为解决现有技术中的由于传统琉璃陶瓷一般烧成温度在850—900℃之间,属于低温瓷,成品瓷化度不高质地相对松散,容易出现破损、脱釉现象的问题。一种采用琉璃釉的陶瓷及生产工艺如下:S1、配制坯料:将制陶所用泥土及矿石制成精细的坯泥待用;S2、制坯成形:S3、施釉:釉料配制:传统绿琉璃釉配合量为:铅丹16.05%、氧化铜5.60%、石末18.80%、朱砂2.08%、熔块11.23%、石灰石粉8.20%、釉灰12.40%、花乳石11.70%、二氧化硅8.60%、硼酸5.34%;施釉方法:未施釉前,将修好的坯体,先施以里釉,再在外面施釉;干燥:施釉完毕后,将器坯利用日光晒干;S4、烧成:烧窑的温度阶,温度,时间的层级变换控制。